京東方：“一種光波導器件及AR顯示裝置”專利，可提高光效
國家專利局消息顯示，北京京東方技術開發有限公司“一種光波導器件及AR顯示裝置”專利公布，申請公布日為2024年3月26日，申請公布號為CN117761825A。專利可提高AR顯示設備的光效。
圖片來源：國家專利局
專利信息顯示，本公開提供一種光波導器件及AR顯示裝置，所述光波導器件包括：光波導板，及設于所述光波導板上的耦入光柵、反射元件和耦出光柵；其中，所述耦入光柵被配置為將入射光耦入至所述光波導板中，并在所述光波導板中形成衍射光線；所述反射元件被配置為接收來自所述光波導板中的所述衍射光線，并將所述衍射光線反射至所述耦出光柵；所述耦出光柵被配置為接收來自所述反射元件反射的衍射光線，并將所述衍射光線射出。本公開實施例提供的光波導器件及AR顯示裝置，其是提供了一種AR增強現實顯示系統的新架構，能夠提高光效。
據悉，京東方在AR/VR設備領域上，可提供Micro OLED顯示模組和Fast LCD模組，尺寸包含0.39英寸至5.5英寸，具有高分辨率，快速響應，高刷新率等特點，可應用于多種微顯示場景。另外，京東方的MLDE技術也可為VR/AR等領域顯示產品提供高品質及高可靠性的 LED 背光產品。
此前，京東方發布了多款微顯示新品，包括全球首發的1.3英寸雙目4K Micro OLED顯示屏，像素密度達4000+PPI，亮度達5000nits。京東方還推出了超薄大視角的Si-OLED雙目光學系統，具有高亮度與顯示密度的同時，產品更加輕薄。
北京大學：申請Micro LED芯片專利，可降低制備復雜度
據國家知識產權局公告，北京大學申請一項名為“一種基于無掩模二次外延的Micro-LED芯片陣列的制備方法“，公開號CN117766642A，申請日期為2023年12月。該專利可降低Micro LED制備工藝的復雜度。
圖片來源：國家專利局
專利摘要顯示，本發明公開了一種基于無掩模二次外延的Micro LED芯片陣列的制備方法。本發明通過對GaN模板進行干法刻蝕，形成應力弛豫圖形化GaN模板，再在應力弛豫圖形化GaN模板基礎上選區二次外延多量子阱等結構，有效避免對多量子阱區域進行干法刻蝕，從而避免了多量子阱的側壁刻蝕損傷；應力弛豫圖形化GaN模板使得n型摻雜的GaN受到的應力得到有效弛豫；在應力弛豫圖形化GaN模板上生長的預應力層，所受到的壓應力得到部分弛豫，面內晶格常數得到擴張，從而減小銦并入所需要的能量，增加多量子阱中銦的并入；在制備應力弛豫圖形化GaN模板中的刻蝕，使得只有GaN微米柱陣列的頂面為c面，作為生長面；選區二次外延生長，不需要額外的掩模，降低了Micro LED制備工藝的復雜度。
