產品機型：37片機

GAN MOCVD機 外延片爐    BDS反應腔體

通過中心輻射流動與垂直噴淋流動相結合吸收行星反應腔體流層的優點，而無需行星反應腔體所需的復雜運動

優勢：避免復雜運動，設計上可擴展

GAN MOCVD機 外延片爐    氣流模式

準確實現反應氣體的瞬時切換在保持腔體流場不變的情況下，可實現反應氣源從連續到脈沖注入的切換

優勢：氣流的流動方式、反應氣體濃度、組分及參雜等級一步柔性可控；滿足用戶不同膜層的界面的要求，納米級薄膜厚度精確可控

GAN MOCVD機 外延片爐   加熱爐體

采用多區電阻片紅外輻射加熱區域可以獨立控制，加熱片形狀經過獨特設計，

優勢：實現大面積溫度可控，獲得更廣范圍的加熱溫區

GAN MOCVD機 外延片爐   控制系統

采用網絡架構，實現傳感器與執行器實時控制：根據不同外延工藝對實時性的敏感性進行針對性設計；提供工藝工程師熟悉的控制界面，指示清晰，操作簡便

優勢：保證生產的重復性與穩定性，方便用戶熟悉使用