|文章介紹|
Competitive mechanism between light extraction efficiency and sidewall passivated effect in the green micro-LEDs with varied thickness of Al2O3 layer
Youcai Deng(鄧有財), Denghai Li(李登海), Yurong Dai, Zongmin Lin, Youqin Lin, Zongyuan Liu, Xinxing Chen, Hao-Chung Kuo, Zhong Chen, Shouqiang Lai(賴壽強) and Tingzhu Wu(吳挺竹)
通訊作者:
■ 賴壽強,廈門大學電子科學與技術學院
■ 吳挺竹,廈門大學電子科學與技術學院
DOI:
https://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6528/adb852
研究背景:
基于氮化鎵的綠光微型發光二極管(Micro-LED)因其體積小、功耗低、亮度高以及在全彩顯示和可見光通信中的廣泛應用而備受重視。然而,隨著芯片尺寸的微縮,側壁缺陷對Micro-LED性能的影響將變得更加顯著,非輻射復合占比的增加將嚴重影響Micro-LED的光輸出功率和外量子效率。為了解決這一問題,研究人員提出了多種側壁處理和缺陷修復技術,其中原子層沉積(ALD)技術因其能夠精確控制薄膜厚度、均勻性和保形性而成為小尺寸Micro-LED側壁鈍化的有效手段。然而,隨著鈍化層厚度的增加,鈍化效果與光提取效率之間存在著一定的競爭關系,為此,本研究在綠光Micro-LEDs上沉積了不同厚度的Al2O3鈍化層,對比研究了這些器件的性能,并揭示鈍化效應與光提取效率之間的競爭機制。
研究內容:
研究采用通過CBATCH Batch ALD(Xiamen Yunmao Technology Ltd., Co.)設備在綠光Micro-LED上制備了不同厚度的(0、30、60 和 90 nm)Al2O3鈍化層,并采用IS測試系統、電流源(Keithley 2400, Keith Inc.)對器件進行了系統性分析:(1)其電流-電壓特性測試結果表明,ALD側壁鈍化層能夠有效降低了器件的漏電流,顯著提升了器件的電學性能;(2)通過采用ABC + f(n)模型對制備得到的綠光Micro-LEDs外量子效率進行分析,探究了ALD鈍化層對缺陷密度和非輻射復合的影響情況;(3)研究還采用仿真模型探索了不同厚度Al2O3鈍化層的透射率變化規律,并闡明了鈍化層厚度對綠光Micro-LEDs光提取效率的影響。研究結果表明:隨著ALD鈍化層厚度的增大,其對綠光Micro-LEDs的鈍化效果逐漸增強,但其透射率的非線性變化將同時對器件的光提取效率產生影響,因此二者之間存在一定的競爭關系,需綜合考慮鈍化效果對內量子效率的影響、在測試的四種器件中,LED-60表現出最高的透射率,并實現了最高的外量子效率,該結果為鈍化層厚度的優化提供了重要參考。

此外,研究還在85°C溫度、85%濕度條件下對器件進行了老化測試,評估了不同厚度Al2O3鈍化層對綠光Micro-LEDs穩定性的影響,結果表明:ALD鈍化層能夠顯著提高器件穩定性、抑制器件性能退化。該結果為提高綠光Micro-LEDs的發光效率和可靠性提供了重要依據。

|作者介紹|
吳挺竹 教授
廈門大學
● 吳挺竹,廈門大學電子科學與技術學院教授、博士生導師,國家高層次青年人才計劃入選者,福建省杰出青年科學基金獲得者,福建省高層次人才,廈門市高層次留學人員,廈門市高層次人才,廈門大學2023年“我最喜愛的十位老師”之一,全球前2%頂尖科學家。近5年以第一/通訊作者在Opto-Electronic Advances、Small、Photonics Research、ACS Photonics、Optics Express等國際高水平期刊上發表學術論文逾50篇,其中2篇論文入選ESI高被引論文。
鄧有財
廈門大學
● 鄧有財,廈門大學在職博士生/泉州三安半導體氮化鎵部部長,碩士畢業于臺灣元智大學,長期從事mini/micro-LED、激光器等半導體光電器件的研究開發工作。
期刊介紹